Intel explica su nueva micro arquitectura y el proceso de fabricación de 14 nanómetros
Intel presentó el 12 de agosto los detalles de su nueva micro arquitectura, optimizada con la tecnología de 14 nanómetros (nm). Fundamentalmente, es un modelo de alto rendimiento y bajo consumo de energía para cómputo que va desde dispositivos móviles hasta infraestructura de computación en la nube e Internet de las Cosas.
La combinación de la nueva micro arquitectura y del proceso de fabricación darán inicio a una nueva ola de innovación en nuevos factores de forma, experiencias y sistemas más delgados, silenciosos y frescos, escribe Intel, agregando que en comparación a la generación anterior del procesador, sus arquitectos y diseñadores han reducido dos veces el diseño térmico del chip, al mismo tiempo que proporcionan un rendimiento similar y otorgan una mejora en la duración de la batería.
Intel ha desarrollado la primera tecnología de 14 nm del mundo en volumen de producción. Utiliza la segunda generación de transistores Tri-gate (FinFET), que entrega el mejor desempeño, potencia, densidad y costo por transistor de la industria.
Ver mas informacion al respecto en Fuente:
http://diarioti.com/intel-explica-su-nu ... tros/82399
saludos
ms, 13-8-2014
Intel presentó el 12 de agosto los detalles de su nueva micro arquitectura, optimizada con la tecnología de 14 nanómetros (nm). Fundamentalmente, es un modelo de alto rendimiento y bajo consumo de energía para cómputo que va desde dispositivos móviles hasta infraestructura de computación en la nube e Internet de las Cosas.
La combinación de la nueva micro arquitectura y del proceso de fabricación darán inicio a una nueva ola de innovación en nuevos factores de forma, experiencias y sistemas más delgados, silenciosos y frescos, escribe Intel, agregando que en comparación a la generación anterior del procesador, sus arquitectos y diseñadores han reducido dos veces el diseño térmico del chip, al mismo tiempo que proporcionan un rendimiento similar y otorgan una mejora en la duración de la batería.
Intel ha desarrollado la primera tecnología de 14 nm del mundo en volumen de producción. Utiliza la segunda generación de transistores Tri-gate (FinFET), que entrega el mejor desempeño, potencia, densidad y costo por transistor de la industria.
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ms, 13-8-2014